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EUV REFLECTOMETER AND MEASURING METHOD

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Citations Cited by
  • Title:
    EUV REFLECTOMETER AND MEASURING METHOD
  • Author: MARYASOV, Oleksiy ; LEBERT, Rainer ; MISSALLA, Thomas ; PILCH, Iris ; BRUCK, Robert
  • Subjects: ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; X-RAY TECHNIQUE
  • Description: EUV-Reflektometer (EUVR) zum Messen der Reflektivität eines für EUV-Strahlung reflektierend wirkenden Prüflings (PR) in Abhängigkeit von der Wellenlänge der EUV-Strahlung und vom Einfallswinkel der EUV-Strahlung auf eine reflektierende Oberfläche (PRO) des Prüflings umfasst eine EUV-Strahlungsquelle (SQ) mit Einrichtungen zum Erzeugen eines Quellflecks zum Emittieren von EUV-Strahlung, eine Strahlformungseinheit (SFE) zum Empfangen von EUV-Strahlung des Quellflecks und zur Erzeugung eines Messstrahls (MS), eine Positioniervorrichtung (POS) zum Halten des Prüflings (PR) und zum Positionieren des Prüflings in Bezug auf den Messstrahl (MS) in mehreren Freiheitsgraden derart, dass im Betrieb der Messstrahl (MS) an einer vorgebbaren Messstelle im Bereich eines Messflecks (MFL) unter einen vorgebbaren Einfallswinkel auf die reflektierende Oberfläche (PRO) trifft, sowie einen für EUV-Strahlung sensitiven Detektor (DET) zum Erfassen der von der reflektierenden Oberfläche (PRO) reflektierten EUV-Strahlung und zur Erzeugung von Detektorsignalen, die die vom Prüfling reflektierte EUV-Strahlung repräsentieren. Das EUV-Reflektometer weist eine von der EUV-Strahlungsquelle (SQ) unabhängige Quellpositions-Überwachungseinrichtung (QPOS) zur Überwachung der räumlichen Position des Quellflecks relativ zur Strahlformungseinheit auf. The invention relates to an EUV reflectometer (EUVR) for measuring the reflectivity of a test object (PR) reflecting EUV radiation according to the wavelength of the EUV radiation and according to the incidence angle of the EUV radiation on a reflective surface (PRO) of the test object, comprising an EUV radiation source (SQ) with devices for generating a source spot for emitting EUV radiation, a beam-shaping unit (SFE) for receiving EUV radiation from the source spot and for generating a measuring beam (MS), a positioning apparatus (POS) for retaining the test object (PR) and for positioning the test object in relation to the measuring beam (MS) in multiple degrees of freedom, in such a way that, during operation, the measuring beam (MS) impinges on the reflective surface (PRO) at a predefinable incidence angle at a predefinable measuring point in the region of a measuring spot (MFL), as well as a detector (DET), sensitive to EUV radiation, for detecting the EUV radiation reflected by the reflective surface (PRO) and for generating detector signals that represent the EUV radiation reflected by the test object. The EUV reflectometer has a source position monitoring device (QPOS), which is independent of the EUV radiation source (SQ), for monitoring the spatial position of the source spot relative to the beam-shaping unit. L'invention concerne un réflectomètre EUV (EUVR) pour mesurer la réflectivité d'un objet de test (PR) réfléchissant un rayonnement EUV en fonction de la longueur d'onde du rayonnement EUV et en fonction de l'angle d'incidence du rayonnement EUV sur une surface réfléchissante (PRO) de l'objet de test, comprenant une source de rayonnement EUV (SQ) dotée de dispositifs pour générer un point source pour émettre un rayonnement EUV, une unité de mise en forme de faisceau (SFE) pour recevoir un rayonnement EUV provenant du point source et pour générer un faisceau de mesure (MS), un appareil de positionnement (POS) pour retenir l'objet de test (PR) et pour positionner l'objet de test par rapport au faisceau de mesure (MS) selon plusieurs degrés de liberté, de telle sorte que, pendant le fonctionnement, le faisceau de mesure (MS) frappe la surface réfléchissante (PRO) selon un angle d'incidence pouvant être prédéfini au niveau d'un point de mesure pouvant être prédéfini dans la région d'un point de mesure (MFL), ainsi qu'un détecteur (DET), sensible au rayonnement EUV, pour détecter le rayonnement EUV réfléchi par la surface réfléchissante (PRO) et pour générer des signaux de détecteur qui représentent le rayonnement EUV réfléchi par l'objet de test. Le réflectomètre EUV comporte un dispositif de surveillance de position de source (QPOS), qui est indépendant de la source de rayonnement EUV (SQ), pour surveiller la position spatiale du point source par rapport à l'unité de mise en forme de faisceau.
  • Creation Date: 2024
  • Language: English;French;German
  • Source: esp@cenet
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